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间歇式粉液混合机:高剪切胶体磨

更新时间:2024-05-19 23:08:24

间歇式粉液混合机


浏览量:1584
型号:PLD2000/4
品牌:IKN
间歇式粉液混合机,粉液混合机,管线式混合机,双入口混合机
面对粉末难易团聚,难以分散,粉尘飞扬的粉体处理工艺中最常见的问题,IKN依肯研发了PLD2000系列产品,专门用于解决粉液在线混合分散的问题
详细说明:
PLD2000设备的特殊结构和工作原理:装备了一个特别设计的转子,一个入口进液体,一个入口进粉体,使两相在瞬间接触时就能及时的将粉体打散。机器可以循环操作直到所有粉末加入完毕,然后密封加料入口,在腔体中继续分散混合。根据产品要求,粉末的性状,最高添加量可达80%。另外,如果粘度过高,也可在入口前加一台泵。
PLD2000 粉液分散混合机的优点:
① 高效的吸入系统,吞吐量大
② 简单而坚稳的设计
③ 自动调节固体和液体的供应
④ 无需额外的配料装置
⑤ 封闭系统,防止灰尘和溶剂的排放
⑥ 润湿颗粒,从而防止结块的形成
⑦ 拆包卸料,不损失原料
⑧ 大大缩短了生产时间
⑨ 通过更有效的碎裂原料,减少原料的添加
⑩ 紧凑的生产方法
⑪ 开发了易于升级的过程,将实验室机器PLD用于生产机器PLD
⑫ 机器可自动排水,具有CIP和SIP清洁标准
⑬ 所以接触液体的部件均为316L或316Ti不锈钢
⑭ 完全自动化
⑮ 符合3A卫生和认证

PLD2000系列粉液分散混合机的应用领域
① 食品行业:还原奶,蛋黄酱,定粉,奶粉等
② 化工行业:颜料,胶质,树脂,黄原胶,碳酸钙悬浮液,染料,氧化铝悬浮液,有毒粉末,石英粉等
③ 医药行业:维生素,色素等
④ 纳米材料,白炭黑,CMC,卡波,高粘度流体
以及其他需要混合大量粉液的情况
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高剪切胶体磨


型号:CM2000/4
品牌:IKN
高剪切胶体磨,管线式胶体磨,进口胶体磨,专业胶体磨,胶体磨厂家
胶体磨CM2000系列特别适合于胶体溶液,超细悬浮液和乳液的生产。除了高转速和灵活可调的定转子间隙外,CM在摩擦状态下工作,也就被称做湿磨。在锥形转子和定子之间有一个宽的入口间隙和窄的出口间隙,在工作中,分散头偏心运转使溶液出现涡流,因此可以达到更好的研磨分散的效果。CM2000整机采用最佳几何机构的研磨定转子,最好的表面处理和优质材料,可以满足不同行业的多种需求。
高剪切胶体磨运行原理:
高剪切胶体磨在电动机的高速转动下物料从进口处直接进入高剪切破碎区,通过一种特殊粉碎装置,将流体中的一些大粉团、粘块、团块等大小颗粒迅速破碎,然后吸入剪切粉碎 区,在十分狭窄的工作过道内由于转子刀片与定子刀片相对高速切割从而产生强烈摩擦及研磨破碎等。在机械运动和离心力的作用下,将已粉碎细化的物料重新压入精磨区进行研磨破碎。精磨区分三级,越向外延伸一级磨片精度越高,齿距越小,线速度越长,物料越磨越细,同时流体逐步向径向作曲线延伸。每到一级流体的方 向速度瞬间发生变化,并且受到每分钟上千万次的高速剪切、强烈摩擦、挤压研磨、颗粒粉碎等,在经过三个精磨区的上千万次的高速剪切、研磨粉碎之后,从而产 生液料分子链断裂、颗粒粉碎、液粒撕破等功效使物料充分达到分散、粉碎、乳化、均质、细化的目的。液料的最小细度可达0.5um。
高剪切胶体磨主要用途
高剪切胶体磨适用于制药、食品、化工及其它行业的湿物料超微粉碎,能起到各种半湿体及乳状液物质德粉碎、乳化、均质和混合,主要技术指标已达到国外同类产品的先进水平。
IKN胶体磨结构:
三道磨碎区,一级为粗磨碎区,二级为细磨碎区,三级为超微磨碎区。

CM2000系列的特点:
①定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。
②齿列的深度:从开始的2.7mm 到末端的0.7mm,范围比较大,范围越大,处理的物料颗粒大小越广。
③沟槽的结构式斜齿,每个磨头的沟槽深度不一样,并且斜齿的流道的体积从上往下是从大到下。

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